Quality, design, warranty, delivery date, price, etcOasis is the only company that can satisfy everything.
다양한 글로벌 제조사의 장비와 유기적으로 연동되어,
공정별 데이터를 정밀하게 제어하고 최적의 수율을 확보할 수 있도록 설계된 당사만의 핵심 기술 플랫폼입니다.
당사는 반도체 제조의 핵심인 전공정(Front-end) 분야에서
글로벌 수준의 장비 호환성과 공정 최적화 기술을 보유하고 있습니다.
반도체 공정 솔루션
Semiconductor Process Solutions
글로벌 장비 인터페이스 최적화
ASML, NIKON의 Scanner와 TEL의 Track 장비 간 정밀 통신 인터페이스를 구축하여 데이터 동기화 및 가동 효율을 극대화합니다.
미세 패턴 제어 솔루션
고해상도 패턴 형성을 위해 CD와 Overlay 정밀도를 실시간으로 모니터링하고 보정하는 제어 시스템을 제공합니다.
안정적 구동 환경
진동 및 온도 변화에 민감한 노광 환경을 위한 고정밀 센싱 및 환경 제어 기술을 적용합니다.
플라즈마 안정화 기술
LAM Research, AMAT, TEL 식각 장비 내의 플라즈마 밀도 및 분포를 균일하게 유지하는 APC 기술을 지원합니다.
고정밀 종점 검출(EPD)
공정 중 식각 깊이를 실시간으로 감지하는 EPD 시스템의 최적화를 통해 과식각을 방지하고 선택비를 향상시킵니다.
수율 극대화 솔루션
식각 균일도 개선을 위한 파워 및 압력 제어 알고리즘을 적용하여 웨이퍼 가장자리 손실을 최소화합니다.
고온 열처리 정밀 제어
TEL, KEK 등의 Batch/Single형 확산로에서 ±0.5℃ 이내의 정밀한 온도 균일성을 확보하는 다채널 히터 제어 기술을 보유하고 있습니다.
가스 공급 시스템 최적화
산화, 확산, 어닐링 공정 시 요구되는 가스의 유량과 압력을 MFC를 통해 정밀하게 조절하여 막질의 안정성을 확보합니다.
신뢰성 높은 막질 형성
웨이퍼 표면의 불순물 제어 및 박막 특성 강화를 위한 공정 레시피 최적화 및 모니터링 시스템을 제공합니다.
고도화된 증착 연동 기술
NOVELLUS, TES, AMAT 등 CVD/ALD 장비와의 완벽한 연동을 통해 원자 수준의 정밀한 박막 증착을 지원합니다.
단차 피복력 개선
복잡한 구조의 미세 패턴에서도 균일한 박막이 증착될 수 있도록 공정 압력 및 플라즈마 파워를 지능적으로 제어합니다.
다양한 소스 관리
전구체의 안정적인 기화 및 공급을 위한 액체/기체 소스 관리 시스템을 통해 박막의 물성을 균질하게 유지합니다.
Engineering Synergy Effect
우리는 특정 단일 기술의 프레임에 갇히지 않습니다.
아이디어의 구체화를 위한 기구 설계부터 시스템의 생명력을 불어넣는 소프트웨어 개발에 이르기까지,
엔지니어링의 전 영역을 관통하는 통합 솔루션을 제공합니다.
이러한 수직 계열화된 협업 시스템은 공정 간의 간극을 줄이고, 프로젝트의 완성도를 극대화하여 고객이 상상하던 결과물을 완벽하게 현실로 구현합니다.
Step 01.
공정 특성을 반영한 최적의 장비 구조 설계
내구성과 정밀도를 동시에 확보하는 하드웨어 아키텍처 구축
Step 02.
핵심 제어기를 통한 실시간 시스템 핸들링
고성능 부품(Component)의 엄격한 선별 및 모듈화를 통한 시스템 안정성 강화
Step 03.
장비 구동의 핵심인 임베디드 및 운영 소프트웨어 자체 개발
개발 효율성을 고려한 최적의 설계 적용